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Nano Imprint


 ▣  Nano Imprinting Technology

- 기재 위에 미세 Pattern을 형성하는 기술로 대면적 구현 가능
- 기재와 동등한 특성을 가진 수지로 Pattern 형성
- 고 투과율 및 일체형 구조로 부착성 우수
- 최소 Å 단위까지 구현 가능

 ▣  Nano Imprinting 공정설비

1) Spinless Coater
장치 소개

Substrate 위에 약액(PR, Resin)을 Slit 방식으로 Coating하는 장치로서
약액(PR, Resin)을 절감하고 우수한 Uniformity 구현

 

- 장치 특성

저점도, 고점도 약액(PR, Resin) Coating 가능
우수한 Coating Uniformity (≤ 3%)
Edge Off-set 조절 가능
다양한 Applications (LCD, OLED, LGP…..) 


- 장치 구성

Chuck Table Module
Slit Nozzle Module
Linear Stage Module
Chemical Supply Module


2) Imprinter

장치 소개

Roll to Roll 방식으로 연속적인 공정 진행


- 장치 특성

대면적 기판 적용 (≤ 75 inch)
Good Pattern Property (Pressing 압력 및 속도 조절)
UV 광량에 따른 경화 조절


- 장치 구성

Chuck Table Module
구동 Rollers (Press, Rewind 등)
Roll Soft-mold
UV-LED Module


3) Buffer Cassette

장치 소개

Substrate에 약액(PR, Resin) Coating 후, CDA Blowing을 이용하여 박막에 남아있는 휘발성분 제거


- 장치 특성

Particle Free (8단의 각 Slot이 구분, Filter 장착)
우수한 휘발성분 제거 (≥ 95%, ≤ 2min.)
Gate Door의 Open/Close 방식
 


4) IR Curing

장치 소개

Imprinting 후 형성된 Pattern을 Infrared 이용하여 경화


- 장치 특성

Infrared Temp. (≤ 200℃)
Transfer Speed (800 ~ 4,800mm/min.)


- 장치 구성

Loader Module
Transfer Module
IR Module
Cooling Module  


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