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CREATIVE, CHALLENGE & BEST YOUR MIND

Nano Imprint


 ▣  ナノインプリンティングテクノロジー

- Substrate(基材)の上に微細パターンを形成する技術で大面積実装可能
- Substrate(基材)と同等の特性を持った樹脂でパターン形成
- 高透過率や一体型構造で密着力が高い。
- 最小 Å 単位まで実現可能

 ▣  ナノインプリンティング工程設備

1) Spinless Coater
- 設備紹介

基材の上に化学溶液をスリット方式でコーティングする設備で、化学溶液の使用量を削減し高いユニフォ ミティを実現

 

- 設備の特性

低粘度、高粘度の化学溶液のコーティングが可能
高いコーティングユニフォミティ(≤3%)
エッジオフセットの調整が可能
多彩なアプリケーションに対応(LCD、OLED、LGP……)


- 設備構成

Chuck Table Module
Slit Nozzle Module
Linear Stage Module
Chemical Supply Module


2) Imprinter

- 設備紹介

Roll to Roll方式で連続的な生産工程


- 設備特性

大型基板にも対応(≤75 inch)
Good Pattern Property(圧力及び速度調節)
UV光量による硬化調整可能


- 設備構成

チャックテーブルモジュール(Chuck Table Module)
駆動ローラー(プレス、巻き戻し))
ロール・ソフトモールド(Roll Soft-mold))
UV-LEDモジュール


3) Buffer Cassette

- 設備紹介

基材に化学溶液をコーティング後、CDA Blowingを利用し薄膜に残る揮発成分を除去


- 設備特性

Particle Free(8段の各スロットが区分され、フィルター実装)
高い揮発成分除去(≥95%、≤2min.)
Gate DoorのOpen/Close方式


4) IR Curing

- 設備紹介

インプリンティング後形成されたパターンを赤外線(Infra red)を利用して硬化


- 設備特性

Infrared(赤外線) Temp. (≤ 200℃)
Transfer Speed (800 ~ 4,800mm/min.)


- 設備構成

Loader Module
Transfer Module
IR Module
Cooling Module  


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