R&D


CREATIVE, CHALLENGE & BEST YOUR MIND

Nano Imprint Lithography


Nano Imprint Lithography 기술이란?

 ▣  주요 특징


- 음각,양각 Pattern 형성을 통한 미세한 패턴이 구현가능
- 최소 Å 단위까지 구현 가능

 ▣  Nano Imprint Lithography vs. Optic LithosgraphyKey Points

 


Advantage
Disadvantage
Solution
높은 생산성
최적화된 Resin 필수
ISL 자체 Resin 개발
낮은 생산비용(<40%)
제한적 Stamp Material
(Glass, Transparent SiO2)

Soft Stamper
공정 단순화
Resolution
Mechanical Factors
낮은 투자 비용


Best Value Your Mind



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         17118

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