R&D


CREATIVE, CHALLENGE & BEST YOUR MIND

Nano Imprint Lithography


ナノインプリント リソグラフィー技術とは?

 ▣  主な特徴


- 陰刻、陽刻Patternの形成を通じた微細パターンが実現可能
- Minで、Å単位まで具現可能

 ▣  Nano Imprint Lithography vs. Optic Lithosgraphy (Key Points)

 


Advantage
Disadvantage
Solution
高い生産性、Å単位まで具現可能
最適化されたUVレジンが必須UV Resin具現
ISL独自的なUV Resin開発
低い生産コスト(<40%)
Limited Stamp Material
(Glass, Transparent SiO2)

Soft Stamper
工程の単純化
Resolution
Mechanical Factors
低い投資費用


Best Value Your Mind



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Fax : 82-31-321-3068