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Nano Imprint Lithography


什么是Nano Imprint Lithography技术?

 ▣  主要特点


- 可通过阴刻和阳刻Pattern制作精细图案。
- 最小单位可达Å。

 ▣  Nano Imprint Lithography vs. Optic Lithosgraphy (Key Points)

 


Advantage
Disadvantage
Solution
生产效率高(> 40 %)
优化Resin
ISL自主开发Resin
降低生产成本 (< 40%)
Limited Stamp Material
(Glass, Transparent SiO2)

Soft Stamper
简化工艺
Resolution
Mechanical Factors
投资成本低


Best Value Your Mind



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21-11, Gyeonggidong-ro, Namsa-eup, Cheoin-gu, Yongin-si, Gyeonggi-do 17118, Korea

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